顶旭桌面微型光刻机，专为微米级图案制作而设计，旨在保障卓越的图形转移精度。
设备采用紫外LED冷光源，结合双非球面石英透镜，可生成半角＜2°的平行光，相较传统接触式曝光机，其极致紧凑的体积将移形换影置于桌面之上，为操作提供了便利与精准。
该光刻机广泛适用于微流控芯片、MEMS器件、光电子器件以及声表面波器件等制备领域。其性能尤其适合高校、科研院所以及企业展开微细加工工艺研究。
紧随现代技术的步伐，顶旭桌面微型光刻机的问世为微纳加工注入了新的活力，助力客户在项目目标的实现过程中迈向更高精度、更具创新性的阶段。
1. 技术参数
- 曝光光源：紫外LED
- 光源波长：365nm;
- 曝光面积：4英寸、6英寸可选；
- 曝光方式：单面接触式定时曝光；
- 曝光分辨率：2um；
- 曝光强度：20~200mW/cm2可调；
- 曝光不均匀性：≤5%；
- 光源平行性：≤2°；
- 光源寿命：≥20000h；
- 电源输入：AC220V±10V，50HZ
- 功率：250W
- 重量：25kg
- 外形尺寸：382（长）*371（宽）*435（高）
- 工作环境：温度0℃-40 ℃，相对湿度＜80 %
2. 使用方法
该设备操作简单，易于上手，具体操作如下：
一、曝光前准备工作
1、硅片处理：确保待曝光硅片经过匀胶处理，表面干净平整，没有明显的污渍或破损。
2、选择光刻板：根据项目需要，选择合适尺寸的光刻板，本设备兼容4英寸、5英寸或6英寸。
3、设备检查：仔细检查设备，确保所有部件处于正常工作状态，确保操作环境良好。
二、曝光操作步骤
1、安装硅片：将待曝光硅片平放在设备的载台上，确保位置准确。
2、放置光刻板：将光刻板平放在硅片上方，如果使用菲林掩膜，需要在其上方放置透明玻璃以保持平稳。
3、设定曝光参数：使用控制面板设置曝光时间和强度，根据具体需求进行调整。
（参数功能：可以将常用曝光参数进行保存，方便使用时调用）
4、启动曝光：确认参数设定无误后，点击启动按钮，设备将开始进行曝光。
5、监控曝光过程：在曝光过程中，您可以通过设备界面监控曝光进度，确保一切顺利进行。
6、曝光完成：曝光结束后，设备会发出提示，取出硅片和光刻板。
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