SU-8光刻胶
SU-8 光刻胶是一种高分辨率、高精度、高附着性的负光刻胶，广泛应用于微纳加工领域。在微流控芯片中，SU-8 光刻胶被广泛应用于微流控芯片的制备中，可以用于制备微流道、反应室、阀门、泵等微型结构。
具体来说，SU-8 光刻胶在微流控芯片中的应用可以分为两个方面：微型结构的制备和微流控芯片的封装。
1.微型结构的制备
SU-8光刻胶可以用来制备SU8模具，浇筑PDMS芯片。SU-8 光刻胶可以通过光刻工艺制备出微流道、反应室、泵、阀门等微型结构。
相比其他材料，SU-8 光刻胶的附着性更强，精度更高，因此可以制备更复杂、更精细的微型结构。此外，SU-8 光刻胶还具有较高的耐化学性和耐高温性，使得其可以承受更严苛的微流控条件。
2.微流控芯片的封装
在微流控芯片的制备过程中，需要对微型结构进行封装，以保证微流控芯片的稳定性和可靠性。
SU-8 光刻胶可以作为微流控芯片的封装材料之一，可以用于制备微流控芯片的上下盖板，也可以用于制备微流控芯片的连接件、密封件等。
总之，SU-8 光刻胶在微流控芯片中的应用具有重要的意义，可以实现对微流控芯片的高精度制备和封装，为微流控芯片的研究和应用提供了强有力的支持。
SU-8光刻胶型号
SU-8光刻胶常见型号如下：
| SU-8 2000系列 | 单次旋涂膜厚范围 |
| SU-8 2002 | 1~4um |
| SU-8 2005 | 3~8um |
| SU-8 2010 | 7~15um |
| SU-8 2025 | 15~40 |
| SU-8 2050 | 20~100um |
| SU-8 2075 | 50~200um |
| SU-8 2100 | 80~250um |
| SU-8 2150 | 130~400um |
显影液
显影液是一种用于光刻工艺中的化学溶液，主要用于去除光刻胶图案中未曝光区域的部分，从而形成所需的微型结构。显影液的成分和配方会根据光刻胶的类型和用途而有所不同，一般包含以下几种主要成分：
1.碱性溶液：显影液中通常含有一种碱性物质，如氢氧化钠、碳酸氢钠等，用于去除未曝光的光刻胶区域。碱性溶液的浓度和种类需要根据具体的光刻胶类型和厚度进行调整。
2.促进剂：促进剂可以加速显影过程，提高显影的效率和速度，通常使用的促进剂有氨水、乙二胺等。
3.抑制剂：抑制剂用于抑制显影液在光刻胶已曝光区域的蚀刻速度，从而防止光刻胶被过度去除。抑制剂的种类和浓度也需要根据光刻胶的类型和厚度进行调整。
4.去离子水：去离子水是显影液中的溶剂，用于稀释显影液和冲洗显影后的芯片，从而减少对芯片材料的腐蚀和污染。
总之，显影液是光刻工艺中不可缺少的一部分，其成分和配方需要根据具体的实验需求和光刻胶类型进行选择和调整，以保证光刻效果和实验结果的准确性和稳定性。
ZH_CN 
EN