镀膜工艺

镀膜工艺

镀膜在真空条件下，采用物理轰击或者化学反应的方法将材料（俗称靶材或膜料）沉积在整个基材表面的一种技术。

低压化学气相沉积（LPCVD）

SiNx，片内均匀性：<±5%

等离子增强 化学气相沉积

SiO₂，SiNx，a-Si(B,P,Ge掺杂)

感应耦合 化学气相沉积

SiO₂，SiNx，SiC(低温、低应力镀膜)

原子层沉积

Al₂O₃、HfO₂、AlN

光学镀膜

SiO2、MgF2、ITO、TiO2、Ta2O5、ZrO2、Al2O3

溅射沉积

Ti、Al、Ni、Au、Ag、Cr、Pt、Cu、TiW90、Pd、Pt、Zn、Mo、W、Ta、Ru、Si、SiC、NiCr20、Nb

电子束蒸发

Ti，Al，Ni，Ag，Cr，Sn，Pt，AuGe

热蒸发

Sn，AuSn，Ag，Au

案例展示